前人还使用晶圆压痕实验，芯片研究了硅的相变与减压速度的函数关系，并观察到硅在3 GPa附近转变非晶相，低于3 GPa之后则恢复为Si-I或Si-III。

文中又采用了多个不同结构的器件（图2）以及商业硅基太阳能板实验，战争战争也采用不同的测试手段进行分析，都产生了这种交流电信号。文章第一作者邹海洋博士，不本身佐治亚理工大学王中林院士为通讯作者

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